氮化硅(Si3N4)陶瓷具有优异的耐高温、高硬度、强度高、耐磨损、热膨胀系数小、导热系数大、抗热震性好以及密度低等一系列优点,产品广泛应用于精细化工、环保工程、航空航天、锂电池正负极材料、微电子和半导体、光学、高温工业窑炉等领域,具有极为广阔的应用前景。
氮化硅在烧结过程中会出现α→β 相变,这一相变属于结构重建型,必然存在化学键的断裂和生成。对于氮化硅材料而言,高能共价键在烧结过程中是一个不利因素,Si-N共价键的存在导致原子扩散系数比较低。在氮化硅原料粉中加入少量的烧结助剂,有利于形成液相,促进颗粒间扩散和粘结,进而形成高致密化氮化硅坯体,增强氮化硅陶瓷的耐腐蚀性能和高温力学性能。烧结助剂的添加,则会引入C,N,O,Fe Al,Ca及游离硅等元素。控制适当的碳氧氮含量,对氮化硅陶瓷的烧结致密性、机械性能和介电性能也有着决定性的影响。因此,精准检测材料中碳、氧、氮元素,对企业生产加工过程中产品质量控制都有着重要的指导意义。
本文采用高频红外碳硫仪和氧氮分析仪检测,参照GB/T16555一2008 规定的方法,对某氮化硅精密陶瓷企业的样品进行碳、氧、氮元素分析,测试结果准确、稳定性高,仪器操作便捷,完全可以胜任于该客户日常生产过程中碳、氧、氮含量检测与分析。
1、实验仪器及试剂
1.1 高频红外碳硫分析仪;
1.2 氧氮分析仪;
1.3 陶瓷坩埚(碳硫仪用)若干;
1.4 石墨坩埚(氧氮仪用)若干;
1.5 电子分析天平(精确到0.0001g);
1.6 工业纯氮气(动力气)、氧气(99.5 %)、高纯氦气(99.999 %);
1.7 钨助熔剂、铁粉和镍囊;
1.8 碳标样: 标样编号:YSBC37112-09,碳标准值为:0.125%。
1.9 氧氮标样: 标样编号:KED1025,氧标准值:0.91%。
标样编号:ED103,氮标准值为:55.6%。
如有更多仪器耗材和标样需求请见下图:
2、仪器参数设置
表1 高频红外碳硫分析仪工作参数
表2 氧氮分析仪工作参数
目前使用碳硫仪和氧氮氢分析仪测试氮化硅产品中碳、氧、氮的含量是行业内的主流方法,如下图:(适配市面上常见碳硫、氧氮氢分析仪产品!如需购买碳硫、氧氮氢分析仪请咨询18502066696微信同号。)
3、实验步骤
3.1 碳含量
准确称取0.0500g(精确到0.0001g)试样于陶瓷坩埚中,分析天平自动读取重量后,加入约1.8g钨助熔剂,置于仪器坩埚托上,通氧燃烧测试。
3.2 氧、氮含量
准确称取0.0300g(精确至0.0001 g)试样,包裹于镍囊中,直接投样分析测试。
4、实验数据
4.1 碳含量测试数据
样品名称 | 分析编号 | 碳测定值 (%) | 样品质量 (g) | 平均值(%) | 相对标准偏差 |
1号Si3N4 | 2205 | 0.087119 | 0.050800 | 0.086797 | 0.52% |
2206 | 0.086475 | 0.050500 |
4.2 氧氮含量测试数据
样品 名称 | 氧测定值 (%) | 氮测定值 (%) | 样品质量 (g) | 氧平均值(%) | 氮平均值(%) | 氧含量 标准偏差 | 氮含量 标准偏差 |
①Si3N4 | 1.136213 | 37.199947 | 0.0306 | 1.017116 | 32.126532 | 0.017746% | 0.531693% |
1.161310 | 37.951874 | 0.0297 | |||||
②Si3N4 | 1.182402 | 37.720762 | 0.030800 | 1.172613 | 37.335731 | 0.013844% | 0.544516% |
1.162824 | 36.950700 | 0.030700 |
4.3 样品碳含量释放曲线
1号Si3N4碳释放曲线:
4.4 样品氧氮含量释放曲线
①Si3N4氧释放曲线: 氮释放曲线: 氮释放曲线:
②Si3N4氧释放曲线: 氮释放曲线:
5、结论
根据本次样品碳、氧、氮结果和释放曲线与客户提供的样品实际数据对比可知:测试结果准确、重现性好,数据稳定。
因此,仪云科技提供的方案在试验方法、仪器精密度和稳定性上,均能很好地满足该氮化硅企业在碳元素、氧元素和氮元素日常检测需求。